華海清科2025上半年營收破19億,核心設(shè)備量產(chǎn)驅(qū)動業(yè)績增長

來源:投影時代 更新日期:2025-08-29 作者:佚名

    華海清科憑借先進產(chǎn)品性能、卓越質(zhì)量及優(yōu)質(zhì)服務(wù),在邏輯芯片、存儲芯片、先進封裝、大硅片、MEMS、MicroLED、第三代半導(dǎo)體等多領(lǐng)域樹立良好口碑,并通過拓展國內(nèi)外銷售渠道、強化市場滲透,市場占有率穩(wěn)步提升。

    報告期內(nèi),華海清科實現(xiàn)營業(yè)收入19.50 億元,同比增長30.28%;實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤5.05 億元,同比增長16.82%;實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的扣除非經(jīng)常性損益的凈利潤4.60 億元,同比增長達25.02%。同時公司持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)、管理等內(nèi)外資源配置,規(guī)范設(shè)計、研發(fā)、制造、客服等全流程管理,深化精益運營,強勁發(fā)展動能。

    持續(xù)推進新產(chǎn)品新工藝開發(fā),市場競爭力穩(wěn)步提升。一方面基于現(xiàn)有產(chǎn)品CMP 產(chǎn)品、離子注入產(chǎn)品面向更先進制程工藝和功能需求不斷進行更新迭代,另一方面積極布局減薄裝備、劃切裝備、邊拋裝備等新技術(shù)新產(chǎn)品的開發(fā)拓展,為客戶提供3D IC全流程解決方案,滿足當(dāng)下AI 芯片、HBM(高帶寬存儲器)堆疊封裝、Chiplet(芯粒)異構(gòu)集成等前沿技術(shù)領(lǐng)域的迫切需求。

    華海清科始終堅持科技創(chuàng)新引領(lǐng)企業(yè)發(fā)展,基于現(xiàn)有產(chǎn)品持續(xù)的迭代升級,積極布局新技術(shù)、新產(chǎn)品的開發(fā)拓展,2025 年上半年,公司研發(fā)投入達2.46 億元,同比增長40.44%,全面布局CMP、減薄、劃切、邊拋、離子注入和濕法等核心技術(shù)的知識產(chǎn)權(quán)保護體系,截至2025 年6 月30 日,公司累計獲得授權(quán)專利500 件,軟件著作權(quán)39 件。憑借技術(shù)實力,公司榮獲“第二十五屆中國專利銀獎”、“全國工業(yè)和信息化系統(tǒng)先進集體”、“金牛上市公司科創(chuàng)獎(高端裝備)”、“天津市先進級智能工廠”等多項榮譽,智能化發(fā)展成果獲廣泛認可。

    全新拋光系統(tǒng)架構(gòu)CMP 機臺Universal-H300 已經(jīng)獲得批量重復(fù)訂單,并實現(xiàn)規(guī);鲐洠恍潞濩MP 裝備訂單中先進制程的訂單已實現(xiàn)較大占比,公司部分先進制程CMP 裝備在國內(nèi)多家頭部客戶實現(xiàn)全部工藝驗證。目前,公司12 英寸及8 英寸等CMP 裝備在國內(nèi)客戶端已占據(jù)較高市場份額。

    報告期內(nèi),12 英寸超精密晶圓減薄機Versatile–GP300 憑借優(yōu)異的性能迅速獲得市場認可,訂單量大幅增長;12 英寸晶圓減薄貼膜一體機Versatile–GM300 完美兼容Wafer to Wafer(W2W)和Die to Wafer(D2W)兩種主流先進封裝工藝路線,獲得客戶的高度認可,報告期實現(xiàn)批量發(fā)貨,連續(xù)發(fā)往國內(nèi)多家半導(dǎo)體龍頭企業(yè)。

    公司12 英寸晶圓邊緣切割裝備集成切割、傳輸、清洗及量測單元,配置高速高扭矩主軸控制、高分辨率視覺對準及測量、高精密多軸聯(lián)動切割、全自動傳輸及高潔凈度清洗等先進技術(shù),可以解決存儲芯片、CIS、先進封裝等多種工藝晶圓減薄時邊緣崩邊問題,已發(fā)往多家客戶進行驗證。

    公司12 英寸晶圓邊緣拋光裝備,采用特制結(jié)構(gòu)的拋光頭及特制拋光帶,能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓缺口、上下晶邊及斜面的拋光,解決邊緣形貌缺陷或損傷層并優(yōu)化應(yīng)力分布以提高良率,滿足半導(dǎo)體制造領(lǐng)域?qū)Ω呔冗吘壧幚淼募夹g(shù)要求,已進入國內(nèi)多家頭部客戶端驗證,并已在存儲芯片、邏輯芯片、先進封裝等關(guān)鍵制程中得到應(yīng)用。

    芯崳公司自主研發(fā)的首臺12 英寸低溫離子注入機iPUMA-LT 發(fā)往國內(nèi)邏輯芯片制造領(lǐng)域龍頭企業(yè),成功實現(xiàn)面向先進制程芯片制造的大束流離子注入機各型號的全覆蓋,并積極布局中束流離子注入機及高能離子注入機等系列裝備。

    用于濕法工藝設(shè)備中研磨液、清洗液等化學(xué)品供應(yīng)的SDS/CDS 供液系統(tǒng)設(shè)備已獲得批量采購,已在邏輯、先進封裝、MEMS 等國內(nèi)集成電路客戶實現(xiàn)應(yīng)用。

    華海清科通過采用先進的CMP 研磨方式,大幅提升再生晶圓的循環(huán)使用次數(shù),獲得客戶的高度認可,獲得多家大生產(chǎn)線批量訂單并長期穩(wěn)定供貨。同時,為有效搶抓晶圓廠加速擴產(chǎn)的窗口期,擴大先發(fā)優(yōu)勢和規(guī)模效應(yīng),公司積極推進晶圓再生擴產(chǎn)項目,進一步擴大晶圓再生服務(wù)的市場份額。

    加快新生產(chǎn)基地建設(shè),優(yōu)化公司產(chǎn)業(yè)布局:華海清科(北京)廠區(qū)正式啟用,減薄等核心裝備產(chǎn)能逐步釋放,積極開展新產(chǎn)品、新功能的創(chuàng)新開發(fā)及升級,助力公司產(chǎn)品線擴展。公司持續(xù)完善區(qū)位布局,擴大公司的輻射范圍,加快產(chǎn)能規(guī)劃及產(chǎn)業(yè)布局。公司全力推進晶圓再生擴產(chǎn)昆山項目落地,擴大先發(fā)優(yōu)勢和規(guī)模效應(yīng),項目規(guī)劃擴建總產(chǎn)能為40 萬片/月,其中首期建設(shè)產(chǎn)能為20 萬片/月,建成后將與天津廠區(qū)形成南北協(xié)同,鞏固公司在國內(nèi)晶圓再生服務(wù)領(lǐng)域領(lǐng)先地位。

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