IEK：全面解析2011年微投影儀規(guī)格需求與市場前景

    二） 微投影技術四大陣營競爭激烈 兩大主流技術為DLP、LCoS

    由圖二可見，微投影的技術主要由四大陣營來提供，包含采用Laser光源的MEMS (Micro Electro Mechanical System) Scanning、以及采用LED光源的LCoS (Liquid Crystal on Silicon) CS(Color Sequencial)、LCoS CF(Color Filter)、DLP (Digital Light Processing)，目前采用技術最普遍為兩大主流，即DLP、LCoS，由于LCoS價格相對于DLP便宜（尤其是LCoS CF），故采用的比率也高，但由于LCoS FS的分辨率較其它好，故未來微投影之成本與效果的考量下，可能逐漸于市場上放量。

    另外，MEMS Scanning的部分，由于雷射光源成本較高，尤其是真實的綠光雷射仍在量產(chǎn)階段，又面臨安全性問題、光斑等議題，但雷射光源具備有最佳的色彩飽和度，待時間逐漸解決問題后，預測2012年后才會快速成長。其它Microdisplay的部分，一般投影機會采用的LCD，但礙于技術結構架構較為復雜，目前仍無法縮小至微型投影的產(chǎn)品中，待未來技術進步后，預測在2013年后逐漸開展。

圖二　微投影產(chǎn)品各技術別市場(2009-2014)