視彩光電總經(jīng)理沈歡:Micro LED晶圓級(jí)到整機(jī)級(jí)的全流程檢測(cè)產(chǎn)業(yè)實(shí)踐

來(lái)源:投影時(shí)代 更新日期:2025-10-30 作者:pjtime資訊組

    2025年10月11日,由中國(guó)電子視像行業(yè)協(xié)會(huì)指導(dǎo)、中國(guó)電子視像行業(yè)協(xié)會(huì)微發(fā)光二極管顯示產(chǎn)業(yè)分會(huì)(CMMA)主辦、天馬微電子股份有限公司聯(lián)合主辦的“2025半導(dǎo)體顯示產(chǎn)業(yè)年會(huì)”在上海新國(guó)際博覽中心成功舉辦,天馬微電子、TCL、利亞德、京東方、阿爾泰、諾瓦星云、康佳光電、康美特、盟拓智能科技、熙泰、芯視元、理湃光晶、海極半導(dǎo)體、視彩、飛書、廈門質(zhì)檢院等在內(nèi)的超60家產(chǎn)業(yè)鏈標(biāo)桿企業(yè)的200余位與行業(yè)專家登記參會(huì)。

    視彩(上海)光電技術(shù)有限公司總經(jīng)理沈歡出席本屆年會(huì)并發(fā)表“視彩Color Vision在Micro LED及XR的應(yīng)用”主題演講。

視彩光電總經(jīng)理沈歡:Micro LED晶圓級(jí)到整機(jī)級(jí)的全流程檢測(cè)產(chǎn)業(yè)實(shí)踐

    沈總在演講中分享了全鏈路光學(xué)測(cè)試與校正方案,為Micro LED及XR顯示產(chǎn)業(yè)鏈提供了關(guān)鍵的技術(shù)賦能。

    在Micro LED領(lǐng)域,視彩實(shí)現(xiàn)了從晶圓級(jí)到整機(jī)級(jí)的全流程檢測(cè)覆蓋。針對(duì)晶圓級(jí)測(cè)試,公司開發(fā)了結(jié)合探針臺(tái)的點(diǎn)亮檢測(cè)系統(tǒng),可同步完成像素級(jí)亮度、色度、光譜及發(fā)光角度的精確測(cè)量,并能進(jìn)行PL光譜分析和MESA結(jié)構(gòu)檢測(cè),為巨量轉(zhuǎn)移前的芯片篩選提供可靠依據(jù)。在模組環(huán)節(jié),其Demura校正技術(shù)能有效改善顯示屏的均勻性,同時(shí)集成Gamma校正與AOI缺陷檢測(cè),顯著提升出廠畫質(zhì)一致性。值得一提的是,其Conoscope光學(xué)系統(tǒng)可分析正負(fù)80度范圍內(nèi)的光型分布,幫助客戶優(yōu)化Micro Lens陣列設(shè)計(jì),提升正面出光效率。

    在XR顯示應(yīng)用方面,視彩針對(duì)AR/VR設(shè)備的特殊需求,推出了多款仿人眼成像鏡頭和虛像測(cè)試方案,支持高達(dá)70度視場(chǎng)角的測(cè)量,并能實(shí)現(xiàn)電動(dòng)對(duì)焦與屈光度調(diào)節(jié)。公司技術(shù)已可完成包括FOV、MTF、鬼影、雜散光、雙目融合等關(guān)鍵光學(xué)指標(biāo)的精準(zhǔn)測(cè)試,最新開發(fā)的虛像距測(cè)量系統(tǒng)更能同時(shí)支持近視與遠(yuǎn)視模擬測(cè)試,為XR設(shè)備的視覺舒適度提供了重要保障。

    通過這些覆蓋模組到整機(jī)的全鏈路光學(xué)測(cè)試能力,視彩光電正為Micro LED及XR顯示技術(shù)的性能優(yōu)化與量產(chǎn)推進(jìn)提供不可或缺的檢測(cè)支撐。

    視彩光電參編2025MLED產(chǎn)業(yè)白皮書

    在《2025 MLED顯示產(chǎn)業(yè)白皮書》編制過程中,視彩(上海)光電技術(shù)有限公司作為重要參編單位,依托其在成像光學(xué)測(cè)量領(lǐng)域深厚的技術(shù)積累,為白皮書檢測(cè)與校正章節(jié)提供了關(guān)鍵技術(shù)支撐與產(chǎn)業(yè)化實(shí)踐案例。

    視彩光電重點(diǎn)貢獻(xiàn)了其在Micro LED及XR顯示光學(xué)測(cè)試領(lǐng)域的全鏈路解決方案,涵蓋從晶圓級(jí)到整機(jī)級(jí)的關(guān)鍵檢測(cè)技術(shù)。其基于成像光譜與亮色度測(cè)量的核心儀器,結(jié)合像素級(jí)定位算法,實(shí)現(xiàn)了對(duì)Micro LED晶圓的發(fā)光性能、光譜特性及MESA結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)測(cè)量,并為巨量轉(zhuǎn)移工藝提供了可靠的芯片篩選依據(jù)。在模組與整機(jī)層面,其Demura校正系統(tǒng)有效提升了顯示屏的均勻性,同時(shí)集成Gamma校正與AOI缺陷檢測(cè),顯著優(yōu)化了畫質(zhì)表現(xiàn)。

    視彩光電的深度參與,為白皮書在顯示檢測(cè)與質(zhì)量管控方面提供了專業(yè)且深度的支持,其全鏈路光學(xué)測(cè)試方案為行業(yè)推進(jìn)Micro LED與XR顯示技術(shù)的性能優(yōu)化提供了關(guān)鍵的技術(shù)保障與產(chǎn)業(yè)化實(shí)踐參考。

 標(biāo)簽:MicroLED 行業(yè)新聞
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