分析師:日本微影設(shè)備廠商面臨生存危機(jī)

來(lái)源:投影時(shí)代 更新日期:2010-10-11 作者:pjtime資訊組

    投資銀行野村證券(Nomura)的市場(chǎng)分析師指出,超紫外光微影(EUVL)儼然已成為下一代IC制程的主流接班技術(shù),但日本微影設(shè)備業(yè)者在此方面的研發(fā)腳步,卻落后歐洲廠商ASML甚多;不過(guò)該銀行分析師認(rèn)為,面臨被市場(chǎng)淘汰危機(jī)的日本微影設(shè)備廠商,若可透過(guò)某種國(guó)家支持政策形式來(lái)凝聚產(chǎn)業(yè)力量,仍為時(shí)未晚──因?yàn)榘∟ikon在內(nèi)的業(yè)者恐怕無(wú)法獨(dú)力負(fù)擔(dān)所需的技術(shù)研發(fā)支出。

    野村證券的分析師已經(jīng)針對(duì)各種微影接班技術(shù)進(jìn)行研究,所得出的結(jié)論是,盡管EUVL在2015~2016年全面量產(chǎn)之前,還得克服動(dòng)力來(lái)源、光罩與檢查方面的挑戰(zhàn),但仍是最具潛力的一種微影技術(shù)。而事實(shí)上,跟目前的氬氟浸潤(rùn)式193奈米微影雙重圖形(double-patterning)相較,EUVL所面臨的問(wèn)題還比較少。

    “根據(jù)那些最積極微縮制程的NAND閃存制造商說(shuō)法,EUVL是下一代微影技術(shù)的最佳選項(xiàng),他們并不想用雙重圖形技術(shù)(DPT)!币按遄C券分析師表示,主要原因是DPT制程不但復(fù)雜度較高,也會(huì)導(dǎo)致低吞吐量、制程不可靠性以及帶來(lái)高成本的低良率。

    此外,利用了密集運(yùn)算的像素化相位移光罩(xilatedphase-shiftmasks)之反轉(zhuǎn)式微影技術(shù)(Inverselithographytechnology,ILT),據(jù)說(shuō)與英特爾正運(yùn)用該技術(shù)與氬氟浸潤(rùn)式微影,微縮至11奈米制程;但野村證券分析師認(rèn)為,那只是當(dāng)前現(xiàn)有技術(shù)暫時(shí)性的擴(kuò)充應(yīng)用。

    還有奈米壓印微影(Nanoimprintlithography,NIL)亦頗具潛力,甚至可微縮至10奈米制程,但主要適用微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)與光學(xué)組件。電子束微影(E-beamlithography)雖已經(jīng)用以生產(chǎn)原型組件,但要達(dá)到大量生產(chǎn)仍有難以突破的障礙。至于利用不同聚合物架構(gòu)的自動(dòng)組裝(self-assembly)技術(shù),應(yīng)用范圍則非常狹窄。

    野村證券預(yù)測(cè),EUVL設(shè)備市場(chǎng)在2010年與2011年將分別達(dá)到50億日?qǐng)A(約6,000萬(wàn)美元)、250億日?qǐng)A(約3億美元)的規(guī)模,到了2015與2016年,該市場(chǎng)可望進(jìn)一步擴(kuò)充至1,600億日?qǐng)A(約19億美元)與2,000億日?qǐng)A(約24億美元)的規(guī)模,并在2018年達(dá)到3,000億日?qǐng)A(35億美元)。

    日本廠商Canon是全球首家推出商業(yè)化EUVL設(shè)備的供貨商,但該公司已經(jīng)停止開(kāi)發(fā)這類設(shè)備;另一家日本廠商N(yùn)ikon的相關(guān)進(jìn)展則遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后歐洲業(yè)者ASML。目前ASML是唯一的EUVL設(shè)備供貨商,該公司一臺(tái)步進(jìn)機(jī)(stepper)的售價(jià)高達(dá)4,000萬(wàn)~4,500萬(wàn)歐元(約5,000萬(wàn)~6,000萬(wàn)美元)。

    野村分析師預(yù)言,在接下來(lái)的五年內(nèi),ASML將獨(dú)霸EUVL步進(jìn)機(jī)市場(chǎng);其他因EUVL技術(shù)而受惠的廠商包括相關(guān)零件供貨商Ushio、Lasertec與Hoya。而由于ASML在EUVL系統(tǒng)開(kāi)發(fā)上的領(lǐng)導(dǎo)地位,日本廠商恐怕將失去在先進(jìn)半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì);對(duì)此野村分析師建議,日本需要推動(dòng)一個(gè)全國(guó)性且聯(lián)合整個(gè)產(chǎn)業(yè)的研發(fā)計(jì)劃。(參考原文:Analyst:Japan’slithofirmsfaceextinction,byPeterClarke)

   

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