國創(chuàng)科MLED、OLED設(shè)備亮相CIOE光博會

    9月11日，第25屆中國國際光電博覽會（CIOE 2024）在深圳國際會展中心盛大開幕。作為全球光電行業(yè)的年度盛會，本次展會吸引了眾多行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)和專家學者齊聚一堂，共同交流探討行業(yè)趨勢。

    武漢國創(chuàng)科光電裝備有限公司自主研發(fā)的新型顯示噴墨印刷裝備系列化產(chǎn)品亮相展會，全方位展示了國創(chuàng)科在新型顯示制造技術(shù)領(lǐng)域的深厚積累和卓越實力。展會首日，國創(chuàng)科展位吸引了眾多參展者、行業(yè)專家及媒體駐足關(guān)注。

重點展品

    國創(chuàng)科致力于研發(fā)生產(chǎn)系列化高端噴印裝備產(chǎn)品，以膜層系列、RGB系列和電流體系列為代表。產(chǎn)品主要應用在OLED，Mini/Micro LED，AR/VR，電子紙等新型顯示領(lǐng)域，太陽能等新能源領(lǐng)域。在本次展會中，國創(chuàng)科選取各系列裝備的重點產(chǎn)品予以展出，主要包括：

    1.膜層系列-PTE量產(chǎn)型裝備

    該裝備適用于OLED產(chǎn)線的TFE、MLP膜層的量產(chǎn)制程。PTE量產(chǎn)型設(shè)備，采用精密的運動控制、精準的墨滴控制、智能的噴印規(guī)劃等技術(shù)，保證基板整面墨滴均勻分布，實現(xiàn)大尺寸mura free的高均勻膜層噴印制備。

    2.RGB系列-PR量產(chǎn)型裝備

    該裝備適用于OLED產(chǎn)線的HIL/HTL/EML/CF制程，并可適用到MLA(點)，QD量子點結(jié)構(gòu)的打印。PR產(chǎn)品線量產(chǎn)型裝備，目前已成功在客戶端實現(xiàn)高分辨率CF、RGB結(jié)構(gòu)打印。精準的墨滴體積控制配合高精度的運動系統(tǒng)，在智能圖案化算法的控制下實現(xiàn)像素坑填充形貌的高均勻性。

    3.電流體系列-ES 型裝備該裝備

    采用電流體霧化技術(shù)，通過高壓電場引導高速射流尖端突破瑞利極限，產(chǎn)生fL級霧滴，可沉積≥50nm厚的均勻致密薄膜，主要適用于高粘材料/超薄膜層的高效制備�？纱钶d陣列化噴頭，滿足量產(chǎn)需求。在微納光學，尤其是 AR&VR的超薄膜層的解決方案中具有巨大的應用價值。

主題論壇

    9月11日下午，展會同期舉辦了“智顯世界·光耀未來-2024新型顯示技術(shù)展主題論壇”，國創(chuàng)科總經(jīng)理陳建魁受邀出席并作《噴墨打印顯示裝備技術(shù)突破》會議報告。

    陳建魁總經(jīng)理從顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求、新型顯示噴印技術(shù)、噴印顯示結(jié)構(gòu)應用等方面介紹了噴印裝備的研發(fā)及行業(yè)拓展情況，并與行業(yè)專家共同探討我國新型顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢，促進顯示產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新，共同推動產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。