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Micro LED領域又一重大突破：芯元基成功開發(fā)出晶圓級印章巨量轉移工藝
來源：投影時代 更新日期：2023-12-11 作者：佚名
Infocomm China 深入報道
LED及大屏商顯年終總結
年度評選盛典獲獎揭曉
上海芯元基在其獨有的化學剝離Micro LED的技術基礎上，成功開發(fā)出了晶圓級印章巨量轉移工藝，達到了轉移芯片位置零偏差。
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